SiH_4…Y(Y=He,Ne,Ar,Kr)体系中的分子间弱相互作用

作     者：袁焜 吕玲玲 朱元成 李会学 YUAN Kun;LV Ling-Ling;ZHU Yuan-Cheng;LI Hui-Xue

作者机构：天水师范学院生命科学与化学学院天水741001 甘肃高校分子材料设计与功能省级重点实验室天水741001 

基　　金：甘肃高校研究生导师基金(1108-01) 教育部科学技术重点研究计划(211189) 

出 版 物：《原子与分子物理学报》 (Journal of Atomic and Molecular Physics)

年 卷 期：2013年第30卷第2期

页      码：178-184页

摘      要：在MP2/aug-cc-pvtz水平上对SiH4…Y(Y=He,Ne,Ar,Kr)复合物势能面上的4个构型进行优化,探讨了SiH4…Y(Y=Ar,Kr)复合物体系中的蓝移氢键结构和电子性质.含基组重叠误差(BSSE)校正的分子间相互作用能的相对大小可以判断复合物的相对稳定性递增顺序为:SiH4…He→SiH4…Ne→SiH4…Ar≈SiH4…Kr.且SiH4与Y(Y=He,Ne)体系之间的相互作用可归属为van der Waals力,而SiH4与Y(Y=Ar,Kr)之间的相互作用属弱氢键.NBO及电子行为分显示,SiH4…Y(Y=Ar,Kr)氢键复合物是一种非静电性质的弱氢键作用.另外,对各复合物中相关键鞍点处的电子密度拓扑性质分析也表明复合物中均存在非静电性质的分子间弱相互作用.

主 题 词：SiH4 弱氢键 van der Waals力 自然键轨道理论 

学科分类：07[理学] 070203[070203] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-0364.2013.02.002

馆 藏 号：203101177...