基于P-V双因素的网络激光标刻性能研究

作     者：闫久江 万辉 史富君 李红军 YAN Jiu-jiang;WAN Hui;SHI Fu-jun;LI Hong-jun

作者机构：武汉纺织大学机械工程与自动化学院湖北武汉430073 

基　　金：湖北省教育厅重点项目(No.D20141601) 武汉纺织大学研究生创新基金项目资助 

出 版 物：《激光与红外》 (Laser & Infrared)

年 卷 期：2016年第46卷第5期

页      码：537-541页

摘      要：传统激光标刻技术已在实际工业生产中普遍应用,但其系统最优标刻性能控制参数存在寻找及设置较为困难、繁琐等问题。针对该问题,本文设计了一种基于嵌入式网络激光标刻模式的新型激光标刻控制模型,并在该模型下通过相关数据预处理算法分析单一标刻影响因素对激光标刻性能的影响;再通过对实验数据的数理统计分析得出二值图像的标刻性能变化规律,最终得出在该材质及类似组成工件下的激光标刻的最优参数快速选择模型和性能最优值域。研究结果表明,该模型为最优激光标刻性能控制参数的快速选择提供了可靠的方法,为进一步研究激光标刻性能影响参数提供了重要参考。

主 题 词：嵌入式以太网 激光标刻 最优参数 标刻性能 

学科分类：08[工学] 081201[081201] 0812[工学-测绘类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-5078.2016.05.005

馆 藏 号：203101317...