考虑磁透镜边缘场的质子成像系统优化设计

作     者：陈锋 郝建红 许海波 Chen Feng;Hao Jian-Hong;Xu Hai-Bo

作者机构：中国工程物理研究院研究生院北京100088 华北电力大学电气与电子工程学院北京102206 北京应用物理与计算数学研究所北京100094 

基　　金：国家自然科学基金(批准号:11675021)资助的课题 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2021年第70卷第2期

页      码：316-322页

摘      要：高能质子照相系统由四极磁透镜和准直器组成,实际透镜的边缘场将影响成像系统的性能.本文将含边缘场的磁场梯度用贝尔函数近似,提出了一种含边缘场的成像系统优化方法.通过Geant 4程序模拟了能量为1.6 GeV的质子成像系统,并通过优化方法给出了考虑边缘场的优化后的系统参数.研究了考虑边缘场时的成像系统参数对准直器孔径的影响.通过对比理想成像系统和优化前后的成像系统在使用准直器时的客体通量分布,研究了边缘场对质子通过客体的通量影响.结果表明,优化后的成像系统可以减小质子通过客体后的通量误差,并且积分差值在10^–2量级时,准直器的孔径参数变化亦在10^–2量级.

主 题 词：质子照相 角度准直器 磁透镜边缘场 Geant 4程序 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.7498/aps.70.20201141

馆 藏 号：203101776...