基于单色光干涉的光刻胶膜厚测量方法

作     者：李嘉锐 胡泓 LI Jiarui;HU Hong

作者机构：哈尔滨工业大学(深圳)机电工程与自动化学院广东深圳518055 

出 版 物：《机械与电子》 (Machinery & Electronics)

年 卷 期：2021年第39卷第2期

页      码：59-64页

摘      要：针对传统的通过转速与光刻胶膜厚的关系来大致判断膜厚范围的问题,研究了基于单色光干涉的光刻胶膜厚测量方法。基于光刻胶的基本特性,将油膜的膜厚测量方法应用在光刻胶上。基于薄膜干涉原理进行系统的光路设计以及光刻胶膜厚测量平台的设计。进行了干涉条纹自动计数算法的研究以及基于单色光干涉的相对光强原理的研究。最后搭建硬件系统和软件系统,对干涉条纹自动计数算法与单色光干涉的膜厚测量方法进行实验验证与分析,实现了光刻胶膜厚的快速精确测量。

主 题 词：光刻胶膜厚 薄膜干涉 干涉条纹自动计数算法 单色光干涉 相对光强原理 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0803[工学-仪器类] 

馆 藏 号：203102099...