冷屏结构与冷屏效率

作     者：尹爽 徐世春 高玲 徐思轶 邓蔚 任海 杨秀华 Yin Shuang;Xu Shichun;Gao Ling;Xu Siyi;Deng Wei;Ren Hai;Yang Xiuhua

作者机构：昆明物理研究所云南昆明650223 

基　　金：国家自然科学基金(31601220) 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2021年第50卷第3期

页      码：99-104页

摘      要：红外探测器中,冷屏结构设计直接影响其杂散辐射抑制能力。为进一步提高冷屏效率,针对冷屏高度、外壳结构对冷屏杂散辐射抑制的影响进行分析。分析采用数学建模的方式,对计算结果与探测器组件测试结果进行比较,总结规律。当冷屏高度为25 mm,探测器组件测试结果为5.46%,当冷屏高度增高到29 mm,冷屏的非有效抑制杂散辐射结构和有效抑制杂散辐射结构组件测试结果分别为6.11%和4.87%。提出了一种冷屏结构设计的新思路,仅增加冷屏高度,不一定可以提高冷屏效率;挡光环有效抑制杂散辐射时,随着冷屏高度增高,杂散辐射抑制能力变强,冷屏效率随之增高,红外探测器性能有所改善,此时调整冷屏外壳结构不会影响冷屏效率。

主 题 词：红外探测器冷屏 冷屏结构 冷屏效率 有效抑制 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/IRLA20200223

馆 藏 号：203102460...