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Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀沉积过程的模拟研究

Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀沉积过程的模拟研究

作     者:赵时璐 张震 ZHAO Shi-lu;ZHANG Zhen

作者机构:东北大学材料与冶金学院沈阳110004 华晨宝马汽车有限公司涂装车间沈阳110044 

出 版 物:《机械设计与制造》 (Machinery Design & Manufacture)

年 卷 期:2007年第5期

页      码:137-139页

摘      要:本文模拟了Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀的镀膜过程。通过对圆柱形镀膜室-偏压电场的模拟,讨论了在不同的偏压电场下粒子的运动特性、成分离析效应的影响因素、涂层成分均匀性的影响因素,模拟结果与实际的镀膜实验相符。

主 题 词:多弧离子镀 镀膜过程 Ti-Al-Zr靶材 成分 

学科分类:080503[080503] 08[工学] 081203[081203] 0805[工学-能源动力学] 0835[0835] 0812[工学-测绘类] 

D O I:10.3969/j.issn.1001-3997.2007.05.057

馆 藏 号:203102462...

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