韩国在华发明专利申请格局、技术结构与比较优势及政策含义

作     者：俞文华 Yu Wenhua

作者机构：清华大学公共管理学院北京100084 

基　　金：国家自然科学基金项目(70373006)资助 

出 版 物：《中国科技论坛》 (Forum on Science and Technology in China)

年 卷 期：2007年第7期

页      码：132-140页

摘      要：韩国已成为在华发明专利申请最为活跃的国家之一。韩国通过技术创新进行的大量技术累积,不仅使之在我国电子产品等高技术产品市场上占据有利的竞争位置,而且还在电子等领域可以挑战发达国家的技术优势。本文从专利统计的角度,剖析韩国在华发明专利申请的技术结构和比较优势,可从一个重要的侧面揭示韩国在华的技术累积轨道和技术竞争优势,从而可为我国积极应对韩国对华知识产权战略并推动两国技术发展合作提供重要依据。本文首先分析了韩国在华发明、实用新型和外观设计3种专利申请及其授权的基本格局;其次,利用国家知识产权发明专利申请数据库数据,采用法国科学技术观察所和国家工业财产局与德国弗朗霍夫创新系统研究所共同编制的国际专利分类与技术分类对照表,对韩国在华职务发明专利申请的技术结构、技术比较优势进行了分析;最后,对上述分析结果背后的公共政策含义进行了探讨。

主 题 词：发明专利申请 技术累积 技术比较优势 韩国 中国 

学科分类：12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程类] 

核心收录：

D　O　I：10.13580/j.cnki.fstc.2007.07.030

馆 藏 号：203102466...