FSI推出适用于32nm的ORION单晶圆清洗系统

出 版 物：《中国集成电路》 (China lntegrated Circuit)

年 卷 期：2008年第17卷第11期

页      码：4-4页

摘      要：FSI国际公司前不久在上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的ORION单晶圆清洗系统。该系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm和22nm技术的关键步骤上多项清洗需要。其中包括减少在超浅层注入后的光刻胶去除的材料损失，避免在高介电系数金属栅和与包含包覆层金属连接的铜的电偶腐蚀和材料损失。

主 题 词：FSI国际公司 ORION 清洗系统 单晶圆 知识服务 电偶腐蚀 金属连接 介电系数 

学科分类：080903[080903] 0821[工学-兵器类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 082101[082101] 

馆 藏 号：203102510...