柠檬酸盐体系铜电沉积及其在微机电系统中的应用

作     者：吴伟刚 杨防祖 骆明辉 田中群 周绍民 WU Wei-Gang;YANG Fang-Zu;LUO Ming-Hui;TIAN Zhong-Qun;ZHOU Shao-Min

作者机构：厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室福建厦门361005 厦门大学物理与机电工程学院福建厦门361005 

基　　金：国家自然科学基金(20873114,20833005) 国家重点基础研究发展规划项目(973)(2009CB930703)资助~~ 

出 版 物：《物理化学学报》 (Acta Physico-Chimica Sinica)

年 卷 期：2010年第26卷第10期

页      码：2625-2632页

摘      要：研究并讨论了在新型柠檬酸盐体系铜电沉积工艺中电镀工艺参数对镀层形貌和颗粒尺寸的影响;利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征了镀层的结构和组分存在状态;并将柠檬酸盐体系电沉积铜应用于微机电系统(MEMS)加工工艺.结果表明:在6 g.L-1 Cu2+,pH=7.0-8.5,1-2 ***-2,45℃,搅拌条件下可得到结晶细小,表面平整的致密铜镀层;镀层为面心立方多晶结构的单质铜,不含其他杂质.利用MEMS工艺成功制得平面电感,其有效的最大品质因数(Q)为12.75,达到了设计要求.

主 题 词：电沉积 柠檬酸盐 铜 镀层表征 平面电感 微机电系统 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3866/pku.whxb20101002

馆 藏 号：203102596...