磁流变抛光与磁流变液:原理与研究现状

作     者：高伟 魏齐龙 李晓媛 王超 汤光平 GAO Wei;WEI Qi-long;LI Xiao-yuan;WANG Chao;TANG Guang-ping

作者机构：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所四川绵阳621900 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51202228) 国家重大科技专项基金资助项目(2013ZX04006011) 中物院超精密加工技术重点实验室基金资助项目(K859-13-JCZ) 

出 版 物：《磁性材料及器件》 (Journal of Magnetic Materials and Devices)

年 卷 期：2015年第46卷第2期

页      码：68-73页

摘      要：磁流变抛光液是磁流变抛光的"刀具",是磁流变抛光技术的核心之一。简要介绍了磁流变抛光技术的原理与特点,重点对磁流变抛光液的本征研究工作进行梳理和总结。分别对磁流变抛光液中双相颗粒的分散及表征,零磁场及磁场作用下流变行为与模型,颗粒受力以及磁流变抛光液与工件表面的作用机理等方面进行了分析和总结;重点分析了磁流变抛光液在磁场作用下颗粒的受力情况以及与工件表面物理作用和化学作用的耦合机制。提出了研究磁流变抛光液的三个基础性问题,展望了磁流变抛光液的研究趋势并在此基础上提出了研究路线图,为磁流变抛光液的进一步设计、制备及应用提供参考。

主 题 词：磁流变抛光液 原理 模型 研究现状 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-3830.2015.02.016

馆 藏 号：203102813...