膜厚控制误差对软X射线多层膜性能影响的分析

作     者：王占山 

作者机构：同济大学精密光学工程技术研究所物理系上海200092 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.60178021) 上海市科技发展基金项目(No.022261049) 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2003年第11卷第2期

页      码：136-138页

摘      要：针对影响多层膜性能的关键因素———膜厚控制误差进行了全面的分析计算,指出影响多层膜性能的主要误差是仪器本身的系统偏差,它使多层膜的峰值反射波长偏离设计值,使得制作出的多层膜无法满足要求;镀膜过程中的随机误差使多层膜的反射率降低,但不影响多层膜峰值反射率波长的位置,因此,在制作多层膜过程中,不但要严格控制镀膜时的系统误差,而且要控制随机误差。

主 题 词：软X射线 多层膜 膜厚控制误差 反射率 反射镜 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1004-924X.2003.02.006

馆 藏 号：203103290...