等离子体增强原子层沉积增透阻隔膜的研究

作     者：林晶 于贵文 孙智慧 张莉 巩雪 钱锋 LIN Jing;YU Guiwen;SUN Zhihui;ZHANG Li;GONG Xue;QIAN Feng

作者机构：哈尔滨商业大学包装科学与工程技术实验室哈尔滨150028 东莞市德派精密机械有限公司东莞523007 

基　　金：黑龙江省教育厅省属高校科技成果研发支持计划(TSTAU-R2018009) 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2021年第41卷第6期

页      码：566-570页

摘      要：高阻隔高透光率的柔性复合材料在包装和电子封装领域具有很高的应用价值。本文采用等离子增强原子层沉积技术在PET基体上制备了多层结构的增透阻隔膜,研究了等离子增强原子层沉积制备氧化硅和氮化硅的工艺参数,利用光学模拟软件设计出所需透过率的膜层结构。结果表明:等离子体增强原子层沉积制备的薄膜原子力显微镜表面形貌晶粒分布均匀,薄膜致密,红外光谱显示制备的薄膜为高纯度的SiO_(2)和Si_(3)N_(4),薄膜的透水率降低了2个数量级,可见光范围透过率可达到94%。

主 题 词：等离子体增强原子层沉积 PET 阻隔性 增透性 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.13922/j.cnki.cjvst.202007053

馆 藏 号：203104154...