基于结构光3D成像技术的945nm窄带滤光片研制

作     者：魏博洋 刘冬梅 付秀华 张静 李爽 周斌 Wei Boyang;Liu Dongmei;Fu Xiuhua;Zhang Jing;Li Shuang;Zhou Bin

作者机构：长春理工大学光电工程学院吉林长春130022 光驰科技(上海)有限公司上海200444 

基　　金：吉林省重大科技攻关专项(20190302095GX) 

出 版 物：《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)

年 卷 期：2021年第58卷第14期

页      码：490-498页

摘      要：随着5G时代的到来,结构光3D成像技术对不可见光接收模组窄带滤光片的要求不断提高。基于法布里-珀罗全介质型干涉仪膜系设计理论,选择Si-H和SiO2分别作为高、低折射率材料,采用光谱拆分法,使用电感耦合磁控溅射技术和直流磁控溅射技术交替成膜,以提高膜层的聚集密度,降低膜层的粗糙度;并通过辅助阳极降低成膜温度对通带光谱的影响。最终制备的滤光片以945 nm为中心波长,对926~952 nm光的平均透过率达到98.5%,0°~38°通带偏移量为13 nm。

主 题 词：薄膜 3D结构光 窄带滤光片 拆分法 磁控溅射 聚集密度 辅助阳极 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/LOP202158.1431001

馆 藏 号：203104649...