小圆形平面靶倾斜磁控溅射镀膜均匀性研究

作     者：付学成 徐锦滨 乌李瑛 黄胜利 王英 FU Xue-cheng;XU Jin-bin;WU Li-ying;HUANG Sheng-li;WANG Ying

作者机构：上海交通大学先进电子材料与器件校级平台上海200240 

基　　金：2018年度上海交通大学决策咨询立项课题(JCZXSJB2018-028) 

出 版 物：《真空》 (Vacuum)

年 卷 期：2021年第58卷第4期

页      码：1-5页

摘      要：基于小圆形平面靶倾斜磁控溅射的实际情况,针对靶材环形刻蚀槽与水平工件台存在夹角的特点,建立数学模型。利用MATLAB软件进行模拟仿真,研究靶材与工件台正对且高度固定时,不同夹角对膜厚分布的影响。我们发现在工件台相对靶材的水平距离上,膜厚先增加后降低。当靶材夹角适当时,在工件台固定的区域范围内,薄膜沉积速率的变化近似直线。根据薄膜厚度在工件台水平面呈圆弧状递减分布实际特点,模拟出在4英寸的衬底上片内均匀性。根据模拟结果,我们在4英寸的衬底上制备出片内非均匀性小于0.6%的氮化钽薄膜,验证了数学模型的合理性,并解释了非均匀性的实验结果优于模拟计算结果的原因。这为设计制造磁控溅射镀膜设备提供了参考。

主 题 词：圆形平面靶 磁控溅射 倾斜溅射 数学模型 高均匀性 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.13385/j.cnki.vacuum.2021.04.01

馆 藏 号：203104679...