集群磁流变磁场分布模型与优化设计

作     者：卢明明 庄绪龙 周家康 林洁琼 李卫幸 LU Mingming;ZHUANG Xulong;ZHOU Jiakang;LIN Jieqiong;LI Weixing

作者机构：长春工业大学机电工程学院吉林长春130012 

基　　金：国家自然科学基金项目(51905046) 吉林省科技发展重点项目(20200401109GX) 吉林省微纳与超精密制造重点实验室(20140622008JC) 

出 版 物：《制造技术与机床》 (Manufacturing Technology & Machine Tool)

年 卷 期：2021年第10期

页      码：45-49页

摘      要：为了增加磁流变抛光过程中抛光膜的有效面积以及实时调控抛光膜产生的抛光力,解决磁流变抛光时磁力线主要集中在磁铁边缘,磁铁中部磁场较弱不利于抛光膜的形成,抛光膜的面积大大减小导致效率低下等问题。通过对铁芯打倒角和开不同边缘角的环形槽的方法,减弱磁铁的边缘效应,优化了电磁铁上方2 mm的磁场分布,利用集群原理提高抛光膜的面积。仿真结果表明开边缘角为75°的环形槽磁场分布最优,优化后的电磁铁中心磁场强度均大于300 mT,最大磁场强度为420 mT。电磁铁上方磁场强度变化梯度减弱,由优化前的200 mT变为80 mT,更有利于磁流变液的均匀分布。因此铁芯开一定角度环形槽和倒角,并运用集群原理,能为磁场分布提供了一种有效的优化方法。

主 题 词：磁流变抛光 装置设计 集群电磁场 磁场优化 

学科分类：12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程类] 08[工学] 0802[工学-机械学] 080201[080201] 

D　O　I：10.19287/j.cnki.1005-2402.2021.10.009

馆 藏 号：203105042...