短种植体在上颌后牙区的应用与风险

作     者：施斌 廖一林 晏奇 Shi Bin;Liao Yilin;Yan Qi

作者机构：武汉大学口腔医院种植科湖北430079 

出 版 物：《中国口腔种植学杂志》 (Chinese Journal of Oral Implantology)

年 卷 期：2021年第26卷第4期

页      码：213-218页

摘      要：上颌后牙区种植常面临可用骨高度不足的问题,使用短种植体可以避免骨增量手术,得到良好的临床效果,但也有一些因素会给短种植体的成功应用带来风险。本文介绍了短种植体的定义与发展,对短种植体应用于上领后牙区的风险因素进行探讨,并对种植体与修复方式的选择提出建议。

主 题 词：短种植体 上颌后牙区 风险因素 修复设计 

学科分类：1003[医学-口腔医学类] 100302[100302] 10[医学] 

D　O　I：10.12337/zgkqzzxzz.2021.08.002

馆 藏 号：203105152...