二氧化硅埋层式光波导结构参数及工艺的设计

作     者：黄伟志 刘皓宇 

作者机构：承德石油高等专科学校河北承德067000 

出 版 物：《承德石油高等专科学校学报》 (Journal of Chengde Petroleum College)

年 卷 期：1999年第1卷第2期

页      码：11-14页

摘      要：本文运用光波导理论中的有效折射率法，对二氧化硅埋层式光波导的结构参数进行了计算和设计．根据常规工艺中出现的一些问题，在工艺设计中选择了反应离子刻蚀法和PECVD工艺，并运用计算机模拟技术，对波导的传播性能进行了分析。

主 题 词：光波导器件 二氧化硅 埋层式光波导 结构参数 工艺设计 反应离子刻蚀法 PECVD工艺 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.13377/j.cnki.jcpc.1999.02.004

馆 藏 号：203119801...