基于MEMS工艺的电学TEM芯片研发与应用

作     者：孙扬 金传洪 SUN Yang;JIN Chuanhong

作者机构：浙江大学材料科学与工程学院硅材料国家重点实验室浙江杭州310027 

出 版 物：《材料科学与工程学报》 (Journal of Materials Science and Engineering)

年 卷 期：2021年第39卷第5期

页      码：716-720,796页

摘      要：透射电子显微镜利用电子束与样品相互作用成像,可提供原子分辨率的结构和成分信息、原子尺度的空间结构和化学成分等信息,是研究材料微观结构与性能关系的有效手段。随着材料尺寸的不断缩小,其电学性质受结构、形貌的影响显著,在纳米乃至原子尺度下研究纳米材料的电学性能十分必要。通过半导体微制造工艺,设计、制备了一款原位电镜用四电极电学芯片,并结合原位样品杆和高精度数字源表,测量了不同条件下制备的单层二硫化钼材料的电流-电压特性曲线。

主 题 词：原位透射电子显微学 四电极电学芯片 MEMS工艺 I-V曲线 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.14136/j.cnki.issn.1673-2812.2021.05.002

馆 藏 号：203105773...