宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺

作     者：吴娜 谭鑫 于海利 张方程 WU Na;TAN Xin;YU Hai-li;ZHANG Fang-cheng

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130033 

基　　金：国家重大科学仪器设备开发专项资助项目(No.2011YQ120023) 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2015年第23卷第7期

页      码：1978-1983页

摘      要：设计和制作了一种在同一基底上具有多闪耀角的宽波段全息-离子束刻蚀光栅。提出了组合形成宽波段全息-离子束刻蚀光栅的分区设计方法,优化了3种闪耀角混合的宽波段全息光栅设计参数,并利用反应离子束刻蚀装置对该光刻胶掩模进行刻蚀图形转移,采用分段、分步离子束刻蚀技术开展了获得不同闪耀角的离子束刻蚀实验。最后在同一光栅基底上分区制作了位相相同,并具有9,18,29°3个不同闪耀角,口径为60mm×60mm,使用波段为200~900nm的宽波段全息光栅。衍射效率测试结果显示其在使用波段的最低衍射效率超过30%,最高衍射效率超过50%,实验结果与理论计算结果基本符合。与其它方式制作的宽波段光栅相比,采用宽波段全息-离子束刻蚀光栅不但工艺成熟,易于控制光栅槽形,而且光栅有效面积尺寸较大,便于批量复制。

主 题 词：全息光栅 宽波段光栅 离子束刻蚀 刻蚀模拟 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/ope.20152307.1978

馆 藏 号：203106356...