宏力和SYNOPSYS携手开发参考设计流程

出 版 物：《中国集成电路》 (China lntegrated Circuit)

年 卷 期：2005年第14卷第3期

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摘      要：Synopsys公司与上海宏力半导体制造有限公司(Grace)近日宣布，Synopsys的专业服务部和宏力已经联合开发出了一个用于宏力的0．18微米的参考设计流程。这个RTL—to—GDSII的设计流程建立在经Synopsys验证的Galaxy设计和Discovery验证平台的基础之上。最终用户可以通过下载预先验证的参考设计流程．迅速开始IC的设计和验证．用户相信使用这个设计流程能够迅速达到预期的最优结果。该参考设计流程将很快由宏力推出。

主 题 词：参考设计流程 IC Discovery验证平台 Synopsys公司 RTL 微米 最优 上海宏力半导体制造有限公司 预期 专业服务 

学科分类：080903[080903] 0202[经济学-财政学类] 02[经济学] 020205[020205] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

馆 藏 号：203106995...