ORION单晶圆清洗系统

出 版 物：《集成电路应用》 (Application of IC)

年 卷 期：2008年第25卷第11期

页      码：49-49页

摘      要：ORION单晶圆清洗系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm和22nm技术的关键步骤上多项清洗需要。其中包括减少在超浅层注入后的光刻胶去除的材料损失，避免在高介电系数金属栅和与包含包覆层金属连接的铜的电偶腐蚀和材料损失。

主 题 词：ORION 清洗系统 单晶圆 电偶腐蚀 金属连接 介电系数 光刻胶 超浅层 

学科分类：080903[080903] 0821[工学-兵器类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 082101[082101] 

馆 藏 号：203107115...