电弧源喷射微粒及膜沉积率与弧电流关系

作     者：张世良 陈鹏 洪惠荫 胡永年 任妮 孙玉珠 翟晓明 

作者机构：兰州物理研究所 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：1989年第20卷第6期

页      码：375-378页

摘      要：利用冷阴极电弧源镀膜时,源喷射微粒其直径从亚微米至十几微米,随弧流增加,微粒密度、膜沉积率及大直径微粒均上升。本文给出了上述试验结果及按直径分布微粒密度图。给出了阴极工作表面平均温度计算公式,计算了灼坑(CRATER)半径与弧流关系,为合理选择源工作参数,进行源设计提供了依据。

主 题 词：阴极电弧 沉积率 流关系 表面平均温度 密度图 场致电子发射 粒密度 氮化铁 阴极表面 冷阴极 

学科分类：08[工学] 

D　O　I：10.13922/j.cnki.cjovst.1989.06.005

馆 藏 号：203107137...