0.50μm步进光刻机关键技术设计

作     者：田陆屏 

作者机构：信息产业部电子第四十五研究所 

出 版 物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)

年 卷 期：1999年第28卷第2期

页      码：5-9页

摘      要：阐述了分步光刻机的发展方向和国内现状，就０５μｍ分步光刻机的设计难点和所采用的关键技术作了进一步的分析。提出了关键技术所采用的设计方案，并对影响、难度最大的工作台技术、自动对准技术、投影镜头技术等的设计原理进行了研究。还对系统的套刻精度进行了分析和测算。

主 题 词：步进光刻机 套刻精度 设计 存储器 DRAM 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 081201[081201] 0812[工学-测绘类] 

馆 藏 号：203108755...