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基于分解多目标进化算法的光刻区调度方法

基于分解多目标进化算法的光刻区调度方法

作     者:张朋 张洁 王卓君 孙可芯 ZHANG Peng;ZHANG Jie;WANG Zhuojun;SUN Kexin

作者机构:东华大学人工智能研究院上海201620 东华大学机械工程学院上海201620 

基  金:国家自然科学基金资助项目(52005099) 中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(223202100044) 

出 版 物:《华中科技大学学报(自然科学版)》 (Journal of Huazhong University of Science and Technology(Natural Science Edition))

年 卷 期:2022年第50卷第4期

页      码:26-32页

摘      要:针对晶圆制造系统光刻区调度问题,考虑设备专用性约束、掩膜版数量约束及设备加工能力约束,以最小化总完工时间和光刻成本、最大化晶圆准时交付率和设备利用率为目标,提出了基于分解多目标进化算法的光刻区调度方法.针对非支配前沿点分布不均的问题,设计了基于聚类分析的参考点生成方法;综合考虑非支配解的分布均匀性、收敛性及计算资源的合理分配,改进了惩罚边界交叉聚合函数;设计了外部档案变邻域搜索方法,提高算法的求解质量和收敛速度.24组基准算例和晶圆制造仿真系统连续12个月的测试结果表明:提出的分解多目标进化算法相对于多种多目标进化算法,能够取得更好的收敛性和解的多样性.

主 题 词:晶圆制造系统 光刻区 多目标调度 分解多目标进化算法 聚合函数 

学科分类:080202[080202] 08[工学] 0802[工学-机械学] 

核心收录:

D O I:10.13245/j.hust.220403

馆 藏 号:203109891...

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