高分辨率投影光刻机光瞳整形技术

作     者：胡中华 杨宝喜 朱菁 肖艳芬 曾爱军 黄立华 赵永凯 黄惠杰 

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室上海201800 中国科学院研究生院北京100049 

基　　金：国家科技重大专项项目(2009ZX02205-001)资助课题 

出 版 物：《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)

年 卷 期：2011年第48卷第11期

页      码：38-45页

摘      要：在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强,获得更好的成像性能。概述了高分辨率投影光刻机照明系统中基于衍射光学元件(DOE)、微透镜阵列(MLA)和微反射镜阵列(MMA)的3种光瞳整形技术,并对这些技术的工作原理、设计制作方法和性能特点进行了归纳与总结。

主 题 词：光学制造 光刻 离轴照明 光瞳整形 衍射光学元件 微透镜阵列 微反射镜阵列 

学科分类：080903[080903] 070207[070207] 07[理学] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.3788/lop48.111101

馆 藏 号：203110051...