面向概念设计的草绘系统

作     者：薛丽霞 邓家禔 Xue Lixia Deng Jiati(Institute of Manufacturing Systems ,Beijing University of Aeronautics and Astronautics,Beijing100083)

作者机构：北京航空航天大学720研究所北京100083 

出 版 物：《计算机工程与应用》 (Computer Engineering and Applications)

年 卷 期：2002年第38卷第10期

页      码：254-256页

摘      要：产品概念设计是产品设计开发过程中最重要的阶段,在分析了概念设计阶段草绘方式重要性的基础上,介绍了两种不同的草绘模式,并提出了一个草绘系统实现的系统框架和设计过程,为设计者提供了一个自然流畅的设计空间。

主 题 词：概念设计 草绘系统 几何约束 CAD 计算机辅助设计 

学科分类：1305[艺术学-设计学类] 13[艺术学] 08[工学] 080203[080203] 081304[081304] 0802[工学-机械学] 0813[工学-化工与制药类] 080201[080201] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1002-8331.2002.10.084

馆 藏 号：203110166...