MOCVD方法在TiO_2纳米粉末制备中的应用

作     者：孙一军 夏冠群 SUN Yi-jun;XIA Guan-qun

作者机构：中国科学院上海冶金研究所上海200050 

出 版 物：《材料科学与工程》 (Materials Science and Engineering)

年 卷 期：1999年第17卷第4期

页      码：7-9,6页

摘      要：众所周知，ＭＯＣＶＤ方法是制备薄膜材料的重要方法之一，现已广泛应用于半导体薄膜、铁电薄膜和超导薄膜等的制备。在以前的工作中，我们设计、加工、安装、调试、建立了一套可计算机自动控制的热壁低压ＭＯＣＶＤ设备，制备出了ＴｉＯ２纳米粉末，得到了一些初步结果。本文详细研究了热壁低压ＭＯＣＶＤ方法在ＴｉＯ２纳米粉末制备中的应用，通过合理设计反应室和收集区域，在采用反应区域和收集区域之间无任何过渡区域的收集方式，制备出了ＴｉＯ２纳米粉末。采用Ｘ射线衍射技术研究了沉积温度对ＴｉＯ２纳米粉末的晶体结构和平均晶粒尺寸的影响规律。在５００℃～１０００℃范围内，粉末均为锐钛矿结构，平均晶粒尺寸７．４～１５．２ｎｍ ，７００℃条件下制备的ＴｉＯ２纳米粉末的平均晶粒尺寸最小。透射电子显微镜观察表明，在最佳沉积温度７００℃条件下制备的ＴｉＯ２粉末粒度均匀性好，粒径约为５～８ｎｍ 。

主 题 词：二氧化钛 纳米粉末 MOCVD法 沉积温度 X射线衍射 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1673-2812.1999.04.002

馆 藏 号：203110301...