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质量梯与最优专利宽度设计

质量梯与最优专利宽度设计

作     者:董亮 隋智勇 任剑新 DONG Liang;SUI Zhi-yong;REN Jian-xin

作者机构:桂林电子科技大学商学院广西桂林541004 中南财经政法大学工商管理学院湖北武汉430073 

基  金:国家社会科学基金资助项目(07BYJ013) 

出 版 物:《科学学研究》 (Studies in Science of Science)

年 卷 期:2013年第31卷第6期

页      码:892-903页

摘      要:通过一个质量梯模型,分别分析了孤立创新框架下和累积创新框架下双寡头厂商的研发行为和专利许可行为对子博弈精炼纳什均衡的影响,然后在此基础上分析了相关的最优专利宽度。结果表明,无论在何种创新框架下,最优专利宽度都随着市场研发效率的变化而改变。与孤立创新框架相比,累积创新框架下最优专利宽度可能较宽也可能较窄,主要取决于不同时期市场研发效率的变化,因此孤立创新框架下的专利制度可能并不适用于累积创新。

主 题 词:专利许可 专利宽度 孤立创新 累积创新 

学科分类:12[管理学] 120204[120204] 1202[管理学-工商管理类] 

核心收录:

D O I:10.16192/j.cnki.1003-2053.2013.06.012

馆 藏 号:203110397...

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