PVD改性RB-SiC表面缺陷研究

作     者：康健 宣斌 谢京江 KANG Jian;XUAN Bin;XIE Jing-jiang

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室吉林长春130033 中国科学院研究生院北京100039 

基　　金：863计划 

出 版 物：《应用光学》 (Journal of Applied Optics)

年 卷 期：2013年第34卷第6期

页      码：933-937页

摘      要：为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究。根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非对其产生磨削作用而产生的。试验表明:过高的抛光速度或过高的抛光压力会造成改性层表面缺陷的产生,调整抛光的相对速度及抛光压力等关键工艺参数,可在保持抛光效率的同时有效减少和避免表面缺陷问题的产生。经试验验证,当表面缺陷产生后,通过选择适当的相对速度和抛光压强,改性层去除0.7μm^1μm后,可有效修复缺陷,并且无新的表面缺陷产生。

主 题 词：光学加工 PVD改性(物理气相沉积法改性) RB_SiC(反应烧结碳化硅) 表面缺陷 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.5768/jao201334.0601006

馆 藏 号：203110417...