用于复制柱面微透镜阵列的铸塑工艺

作     者：陈祥献 

作者机构：浙江大学高技术现代光学中心杭州310027 

出 版 物：《光学仪器》 (Optical Instruments)

年 卷 期：1997年第19卷第Z1期

页      码：145-145页

摘      要：在光刻热熔成型以及电铸复制得到的柱面微透镜阵列镍模板基础上，采用铸塑工艺得到了高质量的PMMA往面微透镜阵列。文中介绍了静态铸塑的模具设计、工艺过程、参数控制及测试分析。微透镜阵列面形误差小于0．5μum。光刻热熔技术可分为三个步骤：①光刻胶板在掩模的遮蔽下进行紫外曝光；②对已曝光的光刻胶板进行显影和清洗；③热熔成型。

主 题 词：微透阵列 微光学 铸塑 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

馆 藏 号：203111564...