基于深度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法

作     者：杨欣华 李思坤 廖陆峰 张利斌 张双 张生睿 施伟杰 韦亚一 王向朝 Yang Xinhua;Li Sikun;Liao Lufeng;Zhang Libin;Zhang Shuang;Zhang Shengrui;Shi Weijie;Wei Yayi;Wang Xiangzhao

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室上海201800 中国科学院大学材料与光电研究中心北京100049 中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心北京100029 东方晶源微电子科技(北京)有限公司北京100176 

基　　金：国家科技重大专项(02专项)(2017ZX02101004-002,2017ZX02101004-003,2017ZX02101004) 上海市自然科学基金(17ZR1434100) 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2022年第42卷第10期

页      码：202-211页

摘      要：提出一种基于深度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。所提方法采用掩模频谱的投影边界以及增长因子表征掩模的衍射频谱特征。设计了基于深度优先搜索的关键图形筛选算法,实现了全芯片光源掩模优化关键图形筛选,获得了所有关键图形组。相比于现有同类方法,所提方法可以获得覆盖频率分组的所有关键图形组,进而选出更优关键图形组。采用荷兰ASML公司的商用计算光刻软件Tachyon Tflex对所提方法进行了仿真验证,仿真结果表明所提方法获得的工艺窗口优于Tachyon Tflex方法,与现有方法相比,所提方法筛选出的关键图形结果更优。

主 题 词：光学设计 图形筛选 分辨率增强技术 光源掩模联合优化 深度优先搜索 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/AOS202242.1022002

馆 藏 号：203111991...