UHVCVD SiGe外延设备真空腔室及自动传输系统设计

作     者：王慧勇 魏唯 宁宗娥 WANG Huiyong;WEI Wei;NING Zonge

作者机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111 

出 版 物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)

年 卷 期：2013年第42卷第4期

页      码：9-11,33页

摘      要：介绍了UHVCVD SiGe外延设备真空腔室及自动传输系统的具体设计,通过合理选取预备室和反应室的真空泵组,满足了设备的超高真空要求,自动传输系统则保证了反应室高洁净环境、提高外延生产效率。

主 题 词：自动传输系统 预备室 反应室 超高真空 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1004-4507.2013.04.002

馆 藏 号：203113465...