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集成电路制造企业研磨废水处理实验研究

集成电路制造企业研磨废水处理实验研究

作     者:徐子义 盛勇 柳晋清 

作者机构:苏州瑞赛泽环境设计工程有限公司江苏苏州215000 常州常大创业环保科技有限公司江苏常州213161 江苏鑫翰环境监测科技有限公司江苏盐城224200 

出 版 物:《环境保护与循环经济》 (environmental protection and circular economy)

年 卷 期:2022年第42卷第8期

页      码:28-31页

摘      要:利用Fe_(3)O_(4)磁种对集成电路制造企业研磨废水进行絮凝法处理,具有较好的沉降效果。最佳处理实验条件为:系统pH为3.0或4.0、外加磁场强度为0.20 T、Fe_(3)O_(4)磁性颗粒重复利用2次、Fe_(3)O_(4)投加量为6 g,此时系统浊度和总硅去除率分别可达99.22%与99.79%。江苏某集成电路制造企业采用Fe_(3)O_(4)磁种絮凝法工艺对研磨废水进行处理,年运行费用可节约40万元,经济效益显著。

主 题 词:研磨废水 絮凝法 Fe_(3)O_(4)磁种 

学科分类:0819[工学-海洋工程类] 081903[081903] 08[工学] 

D O I:10.3969/j.issn.1674-1021.2022.08.008

馆 藏 号:203114804...

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