940 nm滤光片的设计、制备及低角度效应的研究

作     者：唐家建 沈龙海 仲维平 李想 罗皓 TANG Jiajian;SHEN Longhai;ZHONG Weiping;LI Xiang;LUO Hao

作者机构：沈阳理工大学理学院辽宁沈阳110000 

基　　金：沈阳理工大学大学生创新创业训练计划项目(S202010144004) 

出 版 物：《红外技术》 (Infrared Technology)

年 卷 期：2022年第44卷第10期

页      码：1041-1044页

摘      要：本文对人脸识别中使用的940 nm窄带滤光片进行设计及制备,研制一种具有低角度效应的窄带滤光片。选择TiO_(2)、SiO_(2)作为高、低折射率材料,在Essential Macleod软件中对膜系进行设计,通过改变间隔层材料对膜系进行优化,最终设计的膜系层数为11,膜系总厚度为2480.76 nm。采用电子束热蒸发沉积技术对薄膜进行镀制,使用傅里叶红外光谱仪完成透射率光谱特性测试。最终研制的滤光片中心波长为940 nm,在截止区间(200~1100 nm)内,通带透射率大于80%,平均截止透射率小于1%,0°~22°通带偏移量为14 nm。

主 题 词：光学薄膜 窄带滤光片 人脸识别 角度效应 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

馆 藏 号：203115102...