红外器件钝化膜专用磁控溅射系统研制及验证

作     者：佘鹏程 龚俊 黄也 罗超 范江华 

作者机构：中国电子科技集团公司第四十八研究所湖南长沙410111 

出 版 物：《技术与市场》 (Technology and Market)

年 卷 期：2022年第29卷第11期

页      码：39-40页

摘      要：为了探讨红外器件钝化膜工艺专用磁控溅射系统的设计,通过分析红外器件钝化膜工艺特性,采用多腔群集式结构、多梯度真空等设计优化了专用磁控溅射系统,实现了8英寸范围内高均匀性薄膜沉积和基片可旋转上置可靠传输,其性能稳定可靠。

主 题 词：红外器件 钝化膜 磁控溅射 多腔群集式 高均匀性 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1006-8554.2022.11.011

馆 藏 号：203115515...