黑曲霉菌对Ge镀增透膜层的腐蚀行为研究

作     者：戈帆 郭骞 肖建军 刘剑 杨玉萍 王冲文 刘艳芳 罗瑞 赵远荣 杨品杰 刘云红 GE Fan;GUO Qian;XIAO Jianjun;LIU Jian;YANG Yuping;WANG Chongwen;LIU Yanfang;LUO Rui;ZHAO Yuanrong;YANG Pinjie;LIU Yunhong

作者机构：云南北方光电仪器有限公司云南昆明650114 云南西双版纳大气环境材料腐蚀国家野外科学观测研究站云南昆明650114 西双版纳大气环境材料腐蚀云南省野外科学观测研究站云南昆明650114 

基　　金：国防技术基础科研项目(JSHS2019610B001-2) 夜视院集团光电系统高效防霉剂筛选与应用项目 

出 版 物：《红外技术》 (Infrared Technology)

年 卷 期：2022年第44卷第11期

页      码：1228-1235页

摘      要：为开发新型保护膜系和光学系统的防霉设计提供数据支撑,了解Ge镀增透膜层在黑曲霉环境下的腐蚀行为,有助于提高红外窗口材料的环境适应性。通过霉菌加速试验,采用荧光显微镜、扫描电镜、X射线光电子能谱等,研究黑曲霉菌对Ge镀增透膜层样品的腐蚀行为及影响规律。黑曲霉菌为产酸型微生物,在稳定期时,它的生物量最高,细胞代谢产物的积累达到高峰,在对数生长阶段,由其引起的生长环境p H值变化显著,增加了环境的酸度;黑曲霉菌初始以Ge镀增透膜层样品表层吸附的碳元素为营养粘附于样品表面,并在样品表面大量繁殖,消耗样品表层的碳含量,随着黑曲霉菌的大量繁殖,样品表面的pH值也随之降低,样品表面的金属元素被氧化,开始逐步溶解,Ge镀增透膜层样品表层的锗元素、锌元素相继被剥离,参与反应后,样品的表层形貌被破坏严重,形成了大量的腐蚀坑。黑曲霉菌对Ge镀增透膜层的腐蚀行为以点蚀方式为主,它的生长代谢作用促进Ge镀增透膜层的腐蚀。

主 题 词：黑曲霉菌 Ge镀增透膜层 腐蚀行为 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

馆 藏 号：203115517...