基于响应面法的原子层沉积高阻隔膜研究

作     者：赵丽丽 林晶 于贵文 董静 ZHAO Li-li;LIN Jing;YU Gui-wen;DONG Jing

作者机构：哈尔滨商业大学包装科学与工程技术实验室哈尔滨150028 

基　　金：哈尔滨商业大学青年创新人才计划(18XN032) 黑龙江高校科技成果(TSTAU-R2018009) 

出 版 物：《包装工程》 (Packaging Engineering)

年 卷 期：2022年第43卷第23期

页      码：167-173页

摘      要：目的研究分析等离子辅助原子层沉积技术(ALD)技术在PET表面上沉积超薄Al_(2)O_(3)阻隔层的工艺优化。方法采用单因素结合响应面设计试验法,对Al_(2)O_(3)/PET薄膜的沉积速率(GPC)进行优化,通过AFM分析得到薄膜的生长模式和表面粗糙度,最后用水蒸气透过率表征薄膜的阻隔性能。结果最大GPC的沉积参数:TMA脉冲时间为0.17 s、吹扫时间为11 s、O_(2)的脉冲时间为0.35 s、吹扫时间为10 s、沉积速率为0.215 nm/cycle;薄膜以层状生长模式生长,表面粗糙度均方根(RMS)为0.58 nm;沉积500个循环后薄膜的水透过率从7.456 g∙d/m2降低到0.319 g∙d/m2。结论通过响应面法优化了ALD制备工艺参数,Al_(2)O_(3)在PET表面沉积100 nm左右时,水蒸气阻隔性提高了25倍。

主 题 词：原子层沉积 Box-Behnken响应面法 Al_(2)O_(3)/PET高阻隔膜 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.19554/j.cnki.1001-3563.2022.23.020

馆 藏 号：203115637...