用于提高光刻分辨率的光学成像算法的研究

作     者：王国雄 王雪洁 WANG Guo-xiong;WANG Xue-jie

作者机构：浙江大学超大规模集成电路设计研究所杭州310027 浙江大学城市学院信息与电子工程分院杭州310027 

基　　金：国家自然基金资助项目(9 0 2 0 7 0 0 2 ) 国家高新技术研究发展计划资助项目(2 0 0 2 A A 1 Z 1 4 6 0 ) 

出 版 物：《半导体技术》 (Semiconductor Technology)

年 卷 期：2005年第30卷第9期

页      码：24-27页

摘      要：通过对光刻系统中光学成像系统的模拟,提出了改善光刻分辨率的途径以及基于卷积核的计算光强的方法,并介绍了光学系统的传输交叉系数具体计算过程。建立准确描述由于掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸变化的光刻工艺模型,有助于开发由成品率驱动的版图设计工具,自动地实现深亚微米下半导体制造中先进的掩模设计、验证和检查等任务。

主 题 词：光刻仿真 分辨率提高技术 光学成像 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-353X.2005.09.009

馆 藏 号：203116348...