溅射制备的Al_2O_3薄膜的光学性质

作     者：骆红 廖国进 LUO Hong;LIAO Guo-jin

作者机构：中石油东北炼化工程有限公司锦州设计院辽宁锦州121001 辽宁工业大学机械工程与自动化学院辽宁锦州121001 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50376067) 辽宁省教育厅科学基金资助项目(2008316) 

出 版 物：《沈阳农业大学学报》 (Journal of Shenyang Agricultural University)

年 卷 期：2010年第41卷第4期

页      码：468-472页

摘      要：采用中频反应磁控溅射技术,在石英基片上制备了氧化铝薄膜。研究了氧化铝薄膜的XRD谱和Al 2p核心能级的XPS谱随不同制备氧分压比的演变规律。结果表明:随着制备氧分压比的增加,薄膜中的铝元素从金属态逐渐升高到正3价,同时薄膜由晶态逐渐转变成非晶态。当氧分压比为11%时,可以得到符合化学计量比的、非晶态的、表面非常光滑的氧化铝薄膜,该薄膜具有较高的折射率和较低的消光系数。AFM表面相貌图片显示:随氧分压比增加薄膜表面形貌呈现逐渐光滑的趋势。薄膜在300～1100nm波段有很高的透射率。以上性质表明用中频反应磁控溅射技术制备的氧化铝薄膜在光学领域有着广泛的应用前景。

主 题 词：中频反应磁控溅射 氧化铝薄膜 X射线光电子能谱(XPS) 光学特性 

学科分类：08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-1700.2010.04.017

馆 藏 号：203116427...