单晶硅激光辅助超精密切削工艺优化与表面特性

作     者：陈肖 柯金洋 佘中迪 张建国 许剑锋 CHEN Xiao;KE Jinyang;SHE Zhongdi;ZHANG Jianguo;XU Jianfeng

作者机构：湖北工业大学机械工程学院湖北武汉430068 华中科技大学机械科学与工程学院湖北武汉430074 国家数字化设计与制造创新中心湖北武汉430206 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.51905195) 工信部重大短板装备专项(No.TH200H021) 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2023年第31卷第1期

页      码：99-108页

摘      要：为了获得优化的单晶硅激光辅助超精密切削工艺,探究切削加工后单晶硅元件的表面特性,采用正交实验方法对单晶硅的激光原位辅助单点金刚石切削工艺参数进行优化,并对切削加工单晶硅表面质量、面形精度、残余应力和光学透过率等表面特性进行了测量与分析。通过正交实验数据的表面粗糙度方差分析和信噪比分析,获得的优化工艺参数组合为主轴转速为1 500 r/min、进给速率为5 mm/min、切削深度为3 μm、激光功率为4.5 W。采用上述工艺参数加工的165 mm口径单晶硅非球面光学元件的表面粗糙度和面形精度PV分别为2.74 nm和0.52 μm。激光辅助切削加工后的单晶硅表面存在(-1 760.8±362.1) MPa的残余压应力。激光辅助超精密切削加工的单晶硅光学元件在3~5 μm中红外波段镀膜前后的透过率分别为55%和98%,折射率为3.43。实验结果表明,激光辅助超精密切削技术可作为单晶硅光学元件的半精加工或最终精加工工序,以提升复杂面形单晶硅元件的制造效率。

主 题 词：激光辅助超精密切削 单晶硅 工艺优化 表面粗糙度 面形精度 残余应力 透过率 

学科分类：0711[理学-心理学类] 07[理学] 081104[081104] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 081102[081102] 0811[工学-水利类] 071102[071102] 081103[081103] 

核心收录：

D　O　I：10.37188/OPE.20233101.0099

馆 藏 号：203118134...