大口径非球面光学研抛压力控制系统

作     者：范敏 刘凤 王佩 石为人 FAN Min;LIU Feng;WANG Pei;SHI Wei-ren

作者机构：重庆大学自动化学院重庆400030 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.61473050) 重庆市科技攻关资助项目(No.CSTC2012GG-YYJS40008) 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2015年第23卷第4期

页      码：1019-1026页

摘      要：根据大口径非球面光学元件研抛工艺的需求,基于行星式研抛装置设计了一种新型的双路气压平衡研抛压力控制系统。该系统利用低摩擦气缸,压力传感器和两个电气比例阀构建研抛气压闭环回路。分析了系统工作原理,建立了压力控制系统的非线性模型。为了实现恒压控制,运用前馈控制及双模态PID控制算法设计了复合控制器。实验结果表明,该系统能实现研抛压力的平缓过渡,可完成研抛压力的无级调节和柔性控制,输出研抛压力在0到350N可调,稳态压力波动小于1N,对气缸活塞位移波动干扰有较强的鲁棒性。该系统基本满足研抛系统对研抛压力稳定性和精确度的要求。

主 题 词：大口径非球面 光学研抛 研抛压力 压力控制 PID控制 

学科分类：080706[080706] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0807[工学-电子信息类] 0805[工学-能源动力学] 0802[工学-机械学] 0835[0835] 0702[理学-物理学类] 080201[080201] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/ope.20152304.1019

馆 藏 号：203120370...