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ZAO/metal/ZAO多层膜光学性能优化设计

ZAO/metal/ZAO多层膜光学性能优化设计

作     者:李镇涛 王振家 赵大庆 

作者机构:清华大学机械工程系北京100084 

出 版 物:《材料科学与工程学报》 (Journal of Materials Science and Engineering)

年 卷 期:2004年第22卷第4期

页      码:495-497页

摘      要:为获得高质量的透明导电薄膜 ,采用计算机辅助 ,对ZAO metal ZAO多层膜系统进行最优化设计。应用基于薄膜特性矩阵的分析方法 ,计算包含吸收膜的多层膜系的光学特性 ,并以整个膜系在可见光区内的光透射系数作为最优化设计的准则。根据优化结果 ,以磁控溅射方法在玻璃基片上逐次溅射ZAO ,metal,ZAO薄膜 ,最终获得可见光区内最高透光率为 86 .6 % ,方电阻为 6 .5Ω □左右的多层膜。

主 题 词:导电薄膜 最优化设计 多层膜系统 光透射系数 透光率 

学科分类:08[工学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录:

D O I:10.3969/j.issn.1673-2812.2004.04.006

馆 藏 号:203120808...

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