13．4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计

作     者：朱伟忠 吴衍青 陈敏 王纳秀 邰仁忠 徐洪杰 Zhu Weizhong;Wu Yanqing;Chen Min;Wang Naxiu;Tai Renzhong;Xu Hongjie

作者机构：中国科学院上海应用物理研究所 

基　　金：上海同步辐射装置干涉光刻实验站项目资助课题 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2008年第28卷第7期

页      码：1225-1230页

摘      要：基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显。最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的Si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅。

主 题 词：干涉光刻 软X射线透射光栅 严格耦合波方法 复折射率 衍射效率 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/aos20082807.1225

馆 藏 号：203122467...