脉冲激光沉积功能薄膜的研究进展

作     者：程勇 陆益敏 郭延龙 黄国俊 王淑云 朱孟真 黎伟 米朝伟 曹海源 

作者机构：武汉军械士官学校光电技术研究所湖北武汉430075 

出 版 物：《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)

年 卷 期：2015年第52卷第12期

页      码：9-18页

摘      要：脉冲激光沉积技术是制备先进光学薄膜与纳米光学器件的重要手段和前沿领域,是国际研究的热点。介绍了脉冲激光沉积技术原理与特点、制备功能薄膜的研究现状和发展动向,着重阐述了双激光沉积制备功能薄膜的研究现状与未来发展;同时基于更高的需求,针对脉冲激光沉积技术的特点,设计构建了结合动能粒子磁过滤技术的激光沉积系统,提出了融合原子层沉积技术的发展思想,为提高激光沉积功能薄膜性能提供了硬件支撑和技术指导。

主 题 词：激光技术 脉冲激光沉积 功能薄膜 超短脉冲激光 双激光 磁过滤技术 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/lop52.120003

馆 藏 号：203122812...