基于硅基MEMS工艺的快速控制反应镜制作

作     者：王平 代锋 杨士成 WANG Ping;DAI Feng;YANG Shicheng

作者机构：中国空间技术研究院西安分院西安710000 

出 版 物：《空间电子技术》 (Space Electronic Technology)

年 卷 期：2023年第20卷第4期

页      码：91-97页

摘      要：快速控制反应镜(以下简称快反镜)是光电精密跟踪系统中必不可少的组成部分,在消费电子、医疗、天文望远镜、激光通信等领域中有着广泛应用。基于硅基微电子机械系统(micro-electromechanical system,MEMS,)工艺制作微型快反镜,对于实现快反镜和跟踪系统的小型化、轻量化有重要意义。陈述了一款硅基快反镜的结构设计、工艺选择以及制作攻关过程。通过加工便利性、加工精度、加工可靠性与制作成本的综合分析比较,确定了MEMS深硅刻蚀工艺制作小型化快反镜可动结构技术思路。快反镜的制作中,通过“化面为线”的版图优化减少刻蚀面积解决了深硅刻蚀不匀问题,通过清洗方法的对比和择优解决了反射镜面表面清洁度问题,通过改变金属化方法解决了镜面的面形精度控制问题。测试结果表明,此款基于硅基MEMS工艺的小型化快反镜满足了设计和应用需求。

主 题 词：硅基MEMS 工艺 快反镜 深硅刻蚀 

学科分类：08[工学] 082503[082503] 0825[工学-环境科学与工程类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1674-7135.2023.04.015

馆 藏 号：203123364...