利用纳米腔结构增强超薄金属膜的光吸收性质

作     者：邓晨华 秦婧 申佳雨 王宇涛 朱瑞涛 李林 DENG Chenhua;QIN Jin;SHEN Jiayu;WANG Yutao;ZHU Ruitao;LI Lin

作者机构：太原师范学院化学与材料学院山西晋中030619 

基　　金：国家自然科学基金(No.52002266) 中国博士后科学基金(No.2020M673384) 山西省自然科学基金(No.201801D221142) 山西省高等学校科技创新项目(No.2019L0786) 

出 版 物：《激光杂志》 (Laser Journal)

年 卷 期：2023年第44卷第8期

页      码：31-35页

摘      要：针对光吸收与物质厚度之间长期存在的相互制约关系,设计了金属/介电层/吸收层的三层膜纳米腔超吸收结构,并采用磁控溅射法制备Al/Al_(2)O_(3)/Pt纳米腔结构。在Al/Al_(2)O_(3)/Pt三层膜结构中,底层Al膜可以作为很好的反射层,中间Al_(2)O_(3)是一种光学无损介电层,可以为纳米腔结构提供额外的相位。由于强干涉效应,改变中间Al_(2)O_(3)层的厚度,可以很容易地调节顶层金属Pt薄膜的光吸收性质。当改变Al_(2)O_(3)层的厚度,从40 nm变化到200 nm时,Pt薄膜的光吸收性质可以从紫外光区连续地调节到整个可见光区,而且光吸收强度可以达到50%以上。

主 题 词：纳米腔 光吸收 金属薄膜 干涉 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.14016/j.cnki.jgzz.2023.08.031

馆 藏 号：203123382...