动态磁场矩形平面磁控靶开发

作     者：刘文丽 刘旭 尹翔 LIU Wen-li;LIU Xu;YIN Xiang

作者机构：北京北方华创真空技术有限公司北京100015 

出 版 物：《真空》 (Vacuum)

年 卷 期：2023年第60卷第5期

页      码：47-50页

摘      要：针对矩形磁控溅射靶使用过程中靶材利用率较低的问题,北京北方华创真空技术有限公司设计生产了磁铁组件可水平垂直移动的动态磁场矩形平面磁控靶。设备通过电机带动磁铁组件沿靶材宽度方向扫描,使刻蚀跑道在靶面宽度方向拓展,增大靶面可被刻蚀的区域面积,亦通过电机调节磁铁组件垂直方向高度,减小靶材表面磁场强度相对变化,以提高靶材利用率。测试实验表明该动态磁场矩形平面磁控靶的靶材利用率提高至55%~60%,大大降低了生产成本,目前设备已获得行业用户的认可。

主 题 词：磁控溅射 矩形平面靶 靶材利用率 扫描磁场 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D　O　I：10.13385/j.cnki.vacuum.2023.05.06

馆 藏 号：203124137...