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紫外线照射对羟基吡啶毒性效应的影响

紫外线照射对羟基吡啶毒性效应的影响

作     者:苗东洋 沈方琳 陈晖 陆松柳 李丹 MIAO Dongyang;SHEN Fanglin;CHEN Hui;LU Songliu;LI Dan

作者机构:上海市大气颗粒物污染与防治重点实验室复旦大学环境科学与工程系上海200433 上海大学环境与化学工程学院上海200444 上海勘测设计研究院有限公司上海200335 

基  金:国家自然科学基金(22122601,92043301) 上海市自然科学基金(20ZR1404300) 上海市科委科技创新计划项目(21230712800)资助 

出 版 物:《环境化学》 (Environmental Chemistry)

年 卷 期:2023年第42卷第10期

页      码:3265-3275页

摘      要:吡啶类化合物广泛存在于各种环境介质中,本文以羟基吡啶(2-羟基吡啶(2-py)、3-羟基吡啶(3-py)、4-羟基吡啶(4-py)和2,6-二甲基-3-羟基吡啶(2,6-dm-3-py))为研究对象,利用费氏弧菌和基因重组大肠杆菌,评估4种羟基吡啶经紫外线照射后急性毒性、遗传毒性和氧化应激效应变化规律.结果表明,2-py、3-py和2,6-dm-3-py经365 nm和312 nm紫外线照射后,毒性随照射时间延长而增强,其急性毒性相较于未照射前,分别增强了24.7%—99.4%和84.0%—99.9%(照射8 h后).而4-py经两种波长的紫外线照射后毒性变化不同,经365 nm紫外线照射后,急性毒性降低;但经312 nm紫外线照射8 h后,急性毒性增强77.7%,说明4-py经两种波长紫外线照射后生成了不同的降解产物.遗传毒性测试结果表明,4种羟基吡啶及其降解产物对DNA损伤和修复过程具有浓度依赖性,在20—100 mg·L^(−1)C浓度下,细胞SOS响应和氧化还原应激相关基因表达显著,但在6.4—10 mg·L^(−1)C浓度范围内,毒性相关基因表达变化不大,说明4种羟基吡啶及其降解产物在20—100 mg·L^(−1)C内可引起DNA损伤和氧化应激效应.

主 题 词:吡啶类化合物 费氏弧菌 重组大肠杆菌 毒性评估 紫外线照射 

学科分类:07[理学] 09[农学] 0903[农学-动物生产类] 0713[0713] 

核心收录:

D O I:10.7524/j.issn.0254-6108.2022112601

馆 藏 号:203124177...

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