NdFeB薄膜制备及对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响

作     者：万红 斯永敏 谢海涛 黄锐 Wan Hong Si Yongmin Xie Haitao Huang Rui (Department of material engineering and applied chemistry,National University of Defense Technology,Changsha 410073)

作者机构：国防科技大学材料工程与应用化学系长沙410073 

基　　金：国家自然科学基金资助 批准号为 :5 99710 6 4 

出 版 物：《金属功能材料》 (Metallic Functional Materials)

年 卷 期：2001年第8卷第3期

页      码：13-16页

摘      要：本文采用磁控溅射镀膜技术 ,制备NdFeB、TbFe单层及TbFe/NdFeB复合薄膜。通过设计正交试验 ,优化溅射工艺参数。采用振动样品磁强仪、X射线衍射仪对不同热处理温度处理的NdFeB薄膜的磁学性能、晶体结构进行了研究 ,并采用电容位移测量法对TbFe薄膜和TbFe/NdFeB复合薄膜的磁致伸缩系数进行测量。研究结果表明 ,NdFeB薄膜和TbFe薄膜为面内易磁化方向 ,在低于 40 0℃温度下真空热处理 ,薄膜保持非晶态 ,显现较好的软磁性能。与TbFe薄膜复合 ,可以大大降低薄膜的矫顽力 ,其低场磁致伸缩性能优于TbFe单层薄膜 。

主 题 词：磁控溅射 NbFeB薄膜 超磁致伸缩 永磁材料 

学科分类：07[理学] 070205[070205] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1005-8192.2001.03.004

馆 藏 号：203124841...