微机用于柱色谱条件的优化选择——正交试验设计及方差分析评价

作     者：吴祖成 范榆 Wu Zucheng and FunYu, Zhejiang Institute of Technology,Hang-zhou

作者机构：浙江工学院 

出 版 物：《色谱》 (Chinese Journal of Chromatography)

年 卷 期：1989年第7卷第5期

页      码：304-306页

摘      要：多因素的“正交试验设计”,能用较少的试验次数获得尽可能全面的信息,且能在各因素都变化的条件下比较并较快地找到好的试验点,因而也被用于分析测试的条件选择。试验结果用方差分析可以判断各因素影响的大小和确定控制因素,但手工计算十分费时,应用微型计算机可以解决繁复的数字运算。 我们利用正交表L18（21×37）安排试验,选择微粒填充柱色谱的最佳操作条件,

主 题 词：柱色谱条件 正交试验设计 方差分析 

学科分类：081704[081704] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 070302[070302] 0703[理学-化学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203125430...